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鋁靶材是一種用于物理氣相沉積（PVD）制備薄膜的關鍵材料。它具有卓越的導電性和導熱性，因此廣泛用于半導體工業、電子器件制造和光學涂層，用于制備導電薄膜、金屬層、反射鏡涂層且可應用于散熱解決方案。鋁靶材在多個高科技領域中得到廣泛應用，為各種應用提供了高質量的薄膜材料。
品名
鋁靶材
成分
Al
外觀
銀白色,平板或者圓筒狀
純度(%)
99.999%
規格(mm)
Φ125×Φ171×L2342、W1130×L1200×T10、W200×L2650×T12
雜質≤ (ppm)
Fe
Ti
Si
Ni
Na
Cu
Mg
K
Mo
Cr
Sum
2
1
10
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